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吸收讑֤
吸收法采用低挥发或不挥发性溶剂对 VOCsq行吸收Q再利用VOCs和吸收剂物理性质的差异进行分R?br />
含VOCs的气体自吸收塔底部进入塔内,在上升过E中与来自塔的吸收剂逆流接触Q净化后的气体由塔顶排出。吸收了(jin) VOCs的吸收剂通过热交换器后,q入汽提塔顶部,在温度高于吸收温度或压力低于吸收压力的条件下解吸。解吸后的吸收剂l过溶剂 冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs气体l过冷凝器、气液分d后以较纯的VOCs气体d汽提塔,被回收利用。该工艺适合于VOCs度较高、温度较低的气体净化,其他情况下需要作相应的工整?br />
吔R讑֤
在用多孔性固体物质处理流体合物Ӟ体中的某一l分或某些组分可被吸表面q浓集其上,此现象称为吸附。吸附处理废气时Q吸附的对象是气态污染物Q气固吸附。被吔R的气体组分称为吸附质Q多孔固体物质称为吸附剂?br />
Z表面吔R?jin)吸附质后,一部被吔R的吸附质可从 吔R剂表面脱,此现附。而当吔Rq行一D|间后Q由于表面吸附质的浓集,使其吔R能力明显下降而吸附净化的要求Q此旉要采用一定的措施?吔R剂上已吸附的吔R质脱附,以协的吸附能力,q个q程UCؓ(f)吔R剂的再生。因此在实际吔R工程中,正是利用吔R一再生一再吸附的循环q程Q达到除d气中污染物质q回收废气中有用l分?br />
有机废气的燃烧及(qing)催化净化设?br />
燃烧法用于处理高?gu)度Voc与有恶臭的化合物很有效,其原理是用过量的I气使这些杂质燃烧,大多数生成二氧化_水蒸气,可以排放到大气中。但当处理含 氯和?的有机化合物时Q燃烧生成物中HCl或SO2Q需要对燃烧后气体进一步处理?br />
工业有机废气的低温等d体的ȝ讑֤
{离子体是处于늦状态的气体Q其英文名称是plasmaQ它是由国U学 muirQ于1927q在研究低气压下汞蒸气中攄(sh)现象时命名的。等d体由大量的子、中性原子、激发态原子、光子和自由基等l成Q但?sh)子和正d的电(sh)h必须体表现出?sh)中性,q就是“等d体”的含义。等d体具有导?sh)和受?sh)媄(jing)响的许多斚w与固体、液体和气体不同Q因此又有h把它UCؓ(f)物质的第四种状态。根据状态、温度和d密度Q等d体通常可以分ؓ(f)高温{离子体和低温等d体(包子体和L(fng)d体)(j)。其中高温等d体的 늦度接q?Q各U粒子温度几乎相同系处于热力学^衡状态,它主要应用在受控热核反应研究斚w。而低温等d体则学非q状态,各种_子温度q不相同。其中电(sh)子温? Te)≥离子温?Ti)Q可?04K以上Q而其d和中性粒子的温度却可低到300?00K。一般气体放?sh)子体属于低温等d体?br />
截至2013q_(d)?低温{离子体的作用机理研I认为是_子非弹性碰撞的l果。低温等d含电(sh)子、离子、自由基和激发态分子,其中高能?sh)子与气体分子(原子Q发生撞Q将能量转换成基态分子(原子Q的内能Q发生激发?解和电(sh)ȝ一pdq秸处于zd状态。一斚w打开?jin)气体分子键Q生成一些单分子和固体微_;另一力生Q?OH?H2O2Q等自由基和氧化性极强的 O3Q在q一q程中高能电(sh)子v军_性作用,d的热q动只有副作用。常压下Q气体放?sh)生的高度非^衡等d体中?sh)子温层氏度Q远高于气体温度Q室?00℃左叻I(j)。在非^衡等d体中可能发生各种cd的化学反应,主要军_于电(sh)子的q_能量、电(sh)子密度、气体温度、有x体分子浓度和≥气体成分。这Z些需要很大活化能的反应如大气中难降解污染物的去除提供?jin)另外也可以对低度、高?gu)速、大风量的含挥发性有机污染物和含类污染物等q行处理?br />
常见的生等d体的Ҏ(gu)是气体放?sh),所谓气体放甉|指通过某种机制使一?sh)子从气体原子或分子中?sh)d来,形成的气体媒质称为电(sh)L体,如果늦气由外电(sh)Z生ƈ形成传导甉|Q这U现象称为气体放c(din)根据放?sh)生的机理、气体的压j源性质以及(qing)甉|的几何Ş状、气体放늭d体主要分Z下几UŞ式:(x)①辉光放?sh);?介质L攄(sh)Q④频攄(sh)Q⑤ 微L攄(sh)。无论哪一UŞ式生的{离子体Q都需要高压放c(din)容易打火生危险。由于对诸如气态污染物的治理,一般要求在常压下进行?br />
5、光催化和生物净化设?br />
光催化是常温深度反应技术?光催化氧化可在室温下水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无毒无害的产物Q而传l的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可污染物摧毁Q即使用常规的催化、氧化方法亦需要几癑ֺ的高温?br />
从理ZԌ只要 半导体吸收的光能不小于其带隙能,p以激发生电(sh)子和I穴Q该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物Q如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS?qing)PbS{。这些催化剂各自对特定反应有H出优点Q具体研I中可根据需要选用Q如CdS半导体带隙能较小Q跟太阳光谱中的q外光D|较好的匹配性能Q可以很好地利用自然光能Q但它容易发生光腐蚀Q用寿命有限。相对而言QTi02的综合性能较好Q是q泛使用和研I的单一化合?光催化剂?br />
2处理原理~辑
E释扩散法
原理Q将有臭呛_气体通过烟囱排至大气Q或用无臭空气稀释,降低恶臭物质度以减臭呟뀂适用范围Q适用于处理中、低度的有l织排放的恶臭气体。优点:(x)费用低、设备简单。缺点:(x)易受气象条g限制Q恶臭物质依然存在?br />
水吸收法
原理Q利用臭气中某些物质易溶于水的特性,使臭气成分直接与水接触,从而溶解于水达到脱臭目的。适用范围Q水溶性、有l织排放源的恶臭气体。优点:(x)工艺单,理方便Q设备运转费用低 产生二次污染Q需Ҏ(gu)涤液q行处理。缺点:(x)净化效率低Q应与其他技术联合用,?醇Q?脂肪酸等处理效果差?br />
曝气式活性污泥脱臭法
原理Q将恶臭物质以曝气Ş式分散到含活性污泥的混和液中Q通过(zhn)Q生长的微生物降解恶臭物质 适用范围qѝ适用范围Q截?013q_(d)日本已用于粪便处理场、污水处理厂的臭气处理。优点:(x)zL污泥经q驯化后Q对不超q极限负荷量的恶臭成分,去除率可?9.5%以上。缺点:(x)受到曝气强度的限Ӟ该法的应用还有一定局限?br />
多介质催化氧化工?br />
原理Q反应塔内装填特制的固态填料,填料内部复配多介质催化剂。当恶臭气体在引风机的作用下I过填料层,与通过特制喷嘴呈发散雾状喷出的液相复配氧化剂在固相填料表面充分接触Qƈ在多介质催化剂的催化作用下,恶臭气体中的污染因子被充分分解。适用范围Q适用范围q,其适用于处理大气量、中高浓度的废气Q对疏水性污染物质有很好的去除率。优点:(x)占地,投资低,q行成本低;理方便Q即开即用。缺点:(x)耐冲击负P不易污染物浓度及(qing)温度变化影响Q需消耗一定量的药剂?br />
低温{离子体
低温{离子体是固态、液态、气态之后的物质W四态,当外加电(sh)压达到气体的着火电(sh)压时Q气体分子被ȝQ生包括电(sh)子、各U离子、原子和自由基在内的混合体。放?sh)过E中虽然?sh)子温度很高Q但重粒子温度很低,整个体系呈现低温状态,所以称Z温等d体。低温等d体降解污染物是利用这些高能电(sh)子?自由基等zL粒子和废气中的污染物作用,使污染物分子在极短的旉内发生分解,q发生后l的各种反应以达到降解污染物的目的?br />
低温{离子体I气净化设备能够显著治理的污染有:(x) VOC、恶臭气体、异x体、a(b)烟、粉,也可用于消毒杀菌。低温等d体技术是一U全新的净化过E,不需要Q?d剂、不产生废水、废渣,不会(x)D二次污染?
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